#中国芯⽚的最⿊暗时刻，还远没有到来！

⽇前虽然荷兰外贸⼤⾂Liesje Schreinemacher指出，在向国内⼤陆出售芯⽚设备问题上，荷兰将扞卫⾃身经济利益。

但据彭博（Bloomberg）最新报导，知情⼈⼠透露，荷兰官⽅已经与美国达成⼀致共识，对销往中国的芯⽚设备，设置更⾼的⻔槛。

这⼀篇⽂章将是美国荷兰针对中国芯⽚的谈判后，全⽹你能看到最迅速也最全⾯的分析⽂章。⾸先我们从asml的光刻机来看，这⼀次美荷的谈判重点就是asml的光刻机对中输出具体型号，简单说就是对中芯⽚设备要卡在哪⼀个制程节点。

美荷谈判的具体细节是什么？

美荷这次谈判的光刻机输出节点主要就是针对以下这两个类型（EUV因使⽤美国cymer 光源，美⽅⼀直不同意，所以 EUV光刻机不需要谈）。

193nm ArF dry对应的芯⽚⼯艺是130～65nm。

193nm ArF+immersion对应的芯⽚⼯艺则是45～7nm。

美国希望asml禁⽌193nm ArF的两种型号光刻机，⽽荷兰则希望向美国争取193nm ArF dry可以向⼤陆销售，只禁⽌浸没式光刻机即可。

⽬前的结果基本底定，美荷达成⼀致，依照美国bis10/7对华新规，16nm以下finfet、gaa⼯艺的设备全部禁⽌，也就是说193nmArFdry 不禁⽌，荷兰与美国同步，因浸没式光刻机涉及16nm以下，所以禁⽌对华销售。

这将代表未来，⼤陆在未经许可下没办法得到45nm～7nm 的光刻机。这就是这次美荷谈判的最终结果。

没有光刻机的影响⼏何？

45nm以下光刻机⽆法再得到，对⼤陆芯⽚产业的影响⼏乎可以说是没顶之灾，主要影响有以下⼏点